Magnetroninio dulkinimo įrenginys Angstrom Engineering EvoVac

Magnetinio dulkinimo įrenginys turi 20x20x20 colių kamerą su keturiais magnetronais ir Kaufman and Robinson EH400 5A jonų patranka. Vienas iš magnetronų veikia tik radijo dažnio (RF) režime, kitas tik nuolatinės srovės režime (DC), trečias turi perjungimo galimybę tarp RF ir DC, o ketvirtas yra didelės galios impulsų magnetronas (HiPIMS), galintis pasiekti 1MW maksimalią galią atskiram impulsui. Tam magnetrone įdiegti trys maitinimo šaltiniai: 1.2kW DC Glassman Sputter, Advanced Energy 5kW Pinnacle Plus DC (HiPIMS) ir 300W RF VII Power Supply. Tokiu būdu gali būti formuojami sluoksniai iš laidžių ir izoliuojančių medžiagų, iš magnetinių taikinių ir išskirtinių savybių sluoksniai, reikalaujantys garinamos medžiagos didelio jonizacijos laipsnio. Prieš sluoksnių nusodinimą paviršius gali būti valomas toje pačioje kameroje bombarduojant jį jonais, užtikrinant proceso nepertraukiamumą. Taip pat jonų bombardavimas gali būti naudojamas viso sluoksnio pašalinimui. Garinamo sluoksnio storio kontrolė vykdoma galios-laiko režime arba dviem QCM sensoriais. Kriogeninis siurblys užtikrina ne blogesnį nei 9*10-8 Torr vakuumą. Didelis bandinių laikiklis leidžia garinti bandinius iki 12 cm skersmens, o kaitinti juos proceso metu galima iki 600°C. Laikiklio atstumas iki taikinio gali būti keičiamas, o jo sukimasis (0-50 rpm) užtikrina sluoksnio tolygumą visame bandinyje. Bandinių įkrovimas vykdomas per LoadLock sistemą – atskirą vakuuminę kamerą izoliuotą nuo kameros pneumatiniu vožtuvu. Pažangus dujų slėgio paskirstymo reguliatorius leidžia kontroliuoti 3 skirtingų dujų mišinius (O2, N2, Ar). Šiuo metu gali būti naudojamos medžiagos: Al, Ni, Cr, Ti, Sn, In, Cu.

Siūlomos paslaugos:

1. Paviršiaus valymas/ėsdinimas bombarduojant argono arba deguonies jonais

2. Metalinių kontaktų formavimas

3. Plonų metalo oksidų sluoksnių garinimas

4. Dviejų skirtingų medžiagų lydinio formavimas